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爱思强推出新一代MOCVD系统AIX R6

  全球领先的半导体行业沉积设备提供商德国爱思强股份有限公司近日推出新一代MOCVD系统。新型的AIX R6是为氮化镓基的生产而设,并能提供12x6、31x4、121x2英寸规格晶圆配置。这个集多项技术创新于一体的新系统将大幅降低运营成本,以及简化用户界面和制程控制。

  “我们的新型AIX R6解决了LED厂商目前所面临的最重要挑战:器件价格不断下跌的激烈竞争环境,驱动以生产者成本较低的设备制造的需求。AIX R6的设计是为了满足客户对高效生产的要求,助力他们优化生产成本,”AIXTRON爱思强首席执行官兼总裁Martin Goetzeler表示。“因此,来自的突破性订单记录证明了我们的新型AIX R6在今天正式推出之前,就已经凭借其卓越性能和价值定位,成功获得一名关键的市场参与者。”

  AIX R6的设计基于AIXTRON爱思强的近耦合喷淋头®(CCS)概念。这项关键技术已在多个市场上获得高度认可,尤其以出色的化学反应效率以及固有的沉积均匀性而著称。与现时系统相比,AIX R6能节省超过30%的生产者成本以及增加超过120%的产量,为LED大规模生产树立全新标准。

  AIXTRON爱思强首席技术官Andreas Toennis在强调新型MOCVD设备的优势时表示:“AIX R6的研发重点在于满足客户的生产需求。我们着重通过提高生产力、更多的自动化、增强可靠性和延长运行时间来实现产量最大化。此外,通过加强温度监控和控制系统来改善制程控制也是AIX R6的另一个关键特点。新型制程控制系统消除了温度变异以提高可重复性和良率,并且能够缩短生产周期和快速校准。”


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